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半导体废水处理方法

2020-11-05 13:41:34

半导体工业是一个十分依赖水资源的行业,也是高耗水的行业,尤其在目前,水资源有限的情形下,限水、缺水对半导体生产企业的营运产生巨大压力。

    因此,对半导体生产企业节约用水的研究与实践,有助于提升用水效益,降低用水成本。目前,节约用水、中水回用、废水的回收利用已成为半导体业者应对缺水危机的重要措施,特别是废水的回收利用,既能减少对水资源的需求,又能降低企业的生产成本,同时也减少对环境的污染。

    针对电子半导体污水处理方法有很多,生化法、物理法、物化法、化学法等等,都可以根据半导体废水水质情况进行处理,但吸附法、冷冻法、离子交换树脂法、超滤法、电渗析法,在进行废水处理时,相对成本较高,废水去除达标排放率相对比较低。

    电子半导体生产工艺复杂,工艺步骤高达300余步,同时会使用多种化学试剂以及特殊气体,主要生产工序包括:硅片清洗、氧化、扩散、化学气相沉积、光刻、去胶、干法刻蚀、湿法刻蚀、离子注入、金属化镀膜、化学机械抛光等等。

    生产工序不同,所产生的电子半导体生产废水也略有差异,对于产生的电镀废水、含氟废水、重金属废水等,针对电子半导体废水产生途径以及根据半导体废水的回收利用,选择采用膜回收+蒸发结晶工艺。

    对于半导体生产过程中,其他工序中产生的一些有机废水、冲洗废水,其含盐量或者含重金属物质偏低时,可以考虑采用化学药剂、生化法或者沉淀法等一些简单的处理方式。

    实际上每一种半导体废水处理方法,都有其与众不同的优点,大伙儿需要依据自身的水质情况,挑选更为合适自身的解决办法。

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