半导体工业是一个十分依赖水资源的行业，也是高耗水的行业，尤其在目前，水资源有限的情形下，限水、缺水对半导体生产企业的营运产生巨大压力。

    因此，对半导体生产企业节约用水的研究与实践，有助于提升用水效益，降低用水成本。目前，节约用水、中水回用、废水的回收利用已成为半导体业者应对缺水危机的重要措施，特别是废水的回收利用，既能减少对水资源的需求，又能降低企业的生产成本，同时也减少对环境的污染。

    针对电子半导体污水处理方法有很多，生化法、物理法、物化法、化学法等等，都可以根据半导体废水水质情况进行处理，但吸附法、冷冻法、离子交换树脂法、超滤法、电渗析法，在进行废水处理时，相对成本较高，废水去除达标排放率相对比较低。

    电子半导体生产工艺复杂，工艺步骤高达300余步，同时会使用多种化学试剂以及特殊气体，主要生产工序包括：硅片清洗、氧化、扩散、化学气相沉积、光刻、去胶、干法刻蚀、湿法刻蚀、离子注入、金属化镀膜、化学机械抛光等等。

    生产工序不同，所产生的电子半导体生产废水也略有差异，对于产生的电镀废水、含氟废水、重金属废水等，针对电子半导体废水产生途径以及根据半导体废水的回收利用，选择采用膜回收+蒸发结晶工艺。

    对于半导体生产过程中，其他工序中产生的一些有机废水、冲洗废水，其含盐量或者含重金属物质偏低时，可以考虑采用化学药剂、生化法或者沉淀法等一些简单的处理方式。

    实际上每一种半导体废水处理方法，都有其与众不同的优点，大伙儿需要依据自身的水质情况，挑选更为合适自身的解决办法。